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                莱特莱德·水处理
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                半导体→超纯水设备—EDI超纯水╲处理系统

                半导体超纯水〓设备—EDI超纯水处理系统

                  我国电子工业电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)

                  半∑ 导体超纯水设备∮用途

                  半导体、集成电路芯片◢及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器☆件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半①成品、成品。集成电路ぷ的集成度越高,对水质的╳要求也越高。目前我国电→子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分♀不同水质。

                  半导体(semiconductor),指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半※导体材料很多,按化学成分可分为元素半导体和化合物半导体两大类∏。锗和硅是常用的元素半导体;化合物半导体包↙括Ⅲ-Ⅴ族化合物:砷化镓、磷化镓等;Ⅱ-Ⅵ族化合物:硫化镉、硫化锌等;氧化物:锰、铬、铁、铜的氧化物,以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物组成的固溶体:镓铝砷、镓砷磷等。除上述晶态半」导体外,还有非〗晶态的玻璃半导体、有机半导体等。

                  半导体超纯水设备制备工艺

                  1、预处理系◆统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外ω线杀菌器→抛光混床→精密过滤々器→用水点(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

                  2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀☆菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤▂器→用水点(≥18MΩ.CM)(新工艺)

                  3、预处理→一级●反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗①膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外△线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥17MΩ.CM)(新工艺)

                  4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥15MΩ.CM)(新工艺)

                  5、预处理◤系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)

                  水质标准

                  半导体超纯水设备,超纯水设备,超纯水处理设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成∑ 电路水质标准。

                  半导体超纯水设备的应用领域

                  电解√电容器生产铝箔及工作件的清洗;

                  电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水;

                  黑白▼显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水;

                  生产液晶显示器的屏面需用★纯水清洗和用纯水〖配液;

                  晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片;

                  集成电路生产中高纯水清洗硅片;

                  半导体材】料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水;

                  半导♂体材料、晶元材料生产、加工、清洗;

                  高品质显像管、萤光ぷ粉生产;

                  汽车、家电表面抛光处理。

                  莱『特莱德的光电材料生产、加工、清洗;液晶显示屏、离子显示屏、高√品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化▆程度、生产的连■续性、可持续性等←提出了更加严格的要求。