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                芯片超纯水设备“膜法”工艺 为芯片制造提供用水保障

                作者:莱特莱德发表时间:2021-11-27

                   随着“中国制造2025”,“国家集成电路产业发展推进纲要”的颁布,以及国家半导体大基金的成立。芯片产业受●到广泛关注,与此同时,作为芯片产业的重要配套,芯片产业水处理成为行业热点。


                 

                  芯片产业水处@理主要包含两种需求:

                  1、造芯超纯水生产。

                  2、造♀芯排污废水处理。

                  据集成电路产业专家介绍,芯片和液晶面板生产线单条投资一般都会达到百亿元,相关水系统直接影响产品的品质和♀性能,所以用户对于超纯水系统的工艺要求非常高。莱特莱德芯片超纯水≡设备采用PLC+触摸屏控制全套系统自动化程度高,大大节省人力成本和维护成本,水利》用率高,经济合理,是水处理行业的不二之选。其技术特点如下:

                  1、稳压范围宽,输入电压变⊙动±20%仍可正常使用╱。

                  2、效率高,产品具有功率因素校正电路,功率因数可达0.98以上。

                  3、输出电压电流无级连续♂可调,稳压稳流自动切换。

                  4、安全性★能高,输出端可任意短接不会造成机器损坏。

                  5、具有稳定度强、精度高,体积小、重量轻、功耗〓低等特点。

                  芯片生产工艺中对水质要求非常高,所用超纯水的质】量直接影响芯片效果。超纯水设备是在反渗透处理设备之后出现的水处理设备,该设备的出现取代了传统的离子置换设备,并且有着出水质量高、资金投●入少、操控简单、设备体积小等优点,为芯片制造提供用水保障。